På den kapacitive berøringsskærm er udviklingen af projektionsprodukter i fuld gang. Som beskrevet i kapitel 2 er det forskelligt fra resistive berøringsskærme. Når gennemsigtigt ledende glas ikke anvendes, fremstilles det ved at binde flere gennemsigtige ledende film. Derfor er der ikke noget luftlag mellem den kapacitive berøringsskærm, hvilket i høj grad kan reducere refleksionen af grænsefladen og derved undgå problemet med interferensfrynser og blænding, så den har overlegen optisk ydeevne. På dette stadium, selvom det ikke er egnet til tekstinput, kan det realisere flerpunktsindgangsoperationer.
Det realiserer berøringen ved at detektere ændringen af den elektriske mængde af den gennemsigtige elektrode. Den gennemsigtige elektrode fremstilles ved at binde flere gennemsigtige ledende film sammen gennem et klæbende lag, som afsluttes med lamineringsteknologi. Derfor er det særligt vigtigt at eliminere den forskellige læsbarhed af ITO-filmen og delen uden ITO-film gennem design. Generelt er det efter at have dannet et mønstermønster også vigtigt at undertrykke refleksionen af ITO-filmen og delen uden ITO-filmen og forskellen i farve mellem transmission og refleksion. Akhromatisering bør også overvejes til berøringsskærmen. For at komme tættere på glasets farve skal disen reduceres. Da klæbemiddellaglamineringsprocessen anvendes, er det desuden også vigtigt at opretholde konsistensen af den gennemsigtige ledningsevne og klæbemiddellaget.
Analog resistiv berøringsskærm, kan realisere tekstinput. Ensartetheden af den gennemsigtige ledende films modstand i plan påvirker i høj grad evnen til at indtaste tegn korrekt. Overflademodstanden, der bruges til at simulere en resistiv berøringsskærm, er generelt 200 ~ 10001V□. I betragtning af berøringsskærmens detektionsnøjagtighed og strømforbrug er en modstandsværdi på ca. 500 (1/□ den mest ideelle.
Produktionen af ITO-film sker hovedsageligt gennem forstøvningsprocessen i fysisk dampaflejring. Sputtering filmdannelse er en metode, hvor inert gas ioniseres ved vakuumudladning i en vakuumanordning, og ioner accelereres under påvirkning af et elektrisk felt for at bombardere målet, og målpartiklerne, der slår ud, flyver til substratet for at danne en tynd film. Den forstøvende film har god ensartethed og langsigtet stabil kvalitet, som er velegnet til langsigtet masseproduktion. Ensartetheden af modstandsværdien er særlig vigtig for analoge resistive berøringsskærme, så forstøvning af filmdannelse er bedst egnet til fremstilling af denne type gennemsigtig ledende film.
ITO-linjens modstand på tyndfilmssubstratet er generelt 3 x 1CT4? 1 x 10_311 • cm. Fordelene ved tynde filmsubstrater er god fleksibilitet, tyndhed, modstandsdygtighed over for brud og lave omkostninger. Ulempen er, at det tilladte temperaturområde er lille, hvilket begrænser ITO-filmdannelsesprocessen. Den tilladte temperatur på PET-filmen er mere end 100 grader Celsius. Krystalliniteten af den deponerede ITO-film ved denne temperatur er ikke god, hvilket direkte påvirker ITO-filmens ydeevne. For at overvinde de ovennævnte mangler blev der udviklet en lavtemperatur amorf ITO-filmproces, og derefter blev der brugt en udglødningsproces til at omkrystallisere for at afslutte produktionen af højtydende ITO-film.
